超低CEMS在線監(jiān)測(cè)：我店專營(yíng)煙氣CEMS在線監(jiān)測(cè)，水質(zhì)在線監(jiān)測(cè)，VOCs在線監(jiān)測(cè)，工業(yè)過(guò)程氣體分析，其它氣體檢測(cè)儀器配件，廠家直銷，*，歡迎致電詢價(jià)對(duì)比。

一、產(chǎn)品介紹

   煙氣超低排放連續(xù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（簡(jiǎn)稱CEMS），可對(duì)固定污染源（如鍋爐、工業(yè)爐窯、焚燒爐等）排放煙氣中的顆粒物、氣態(tài)污染物的濃度（mg/m³）和排放率（kg/h、t/d、t/a）進(jìn)行連續(xù)地、實(shí)時(shí)地跟蹤測(cè)試?；蛘哒f(shuō)，CEMS是煙氣排放在線監(jiān)測(cè)和排污計(jì)量系統(tǒng)。

二、測(cè)量原理

    超低煙塵儀基于前向光散射原理，激光器發(fā)出的高鞏固性激光經(jīng)由準(zhǔn)直后射入丈量室，激光束與顆粒物相遇后發(fā)生前向散射光，散射光由透鏡接收后，通過(guò)信號(hào)光纖導(dǎo)入光電檢驗(yàn)器，經(jīng)由超高生動(dòng)度光電信號(hào)轉(zhuǎn)換后，散射光信號(hào)轉(zhuǎn)變成與顆粒物濃度成正比的電信號(hào)，經(jīng)由通過(guò)特定的算法，輸出顆粒物的濃度值。

三、安裝點(diǎn)固定位置選擇

固定污染源煙氣CEMS應(yīng)安裝在能準(zhǔn)確可靠地連續(xù)監(jiān)測(cè)固定污染源煙氣排放狀況的有代表性的位置上

一般要求：

l 位于固定污染源排放控制設(shè)備的下游；

l 不受環(huán)境光線和電磁輻射的影響；

l 煙道或煙囪震動(dòng)幅度盡可能??；

l 安裝位置應(yīng)避免煙氣中水滴和水霧的干擾；

l 安裝位置不漏氣；

l 安裝煙氣CEMS的工作區(qū)域必須提供永jiu性的電源，以保障煙氣CEMS的正常運(yùn)行；

l 采樣或監(jiān)測(cè)平臺(tái)易于人員到達(dá)，有足夠的空間，便于日常維護(hù)和比對(duì)監(jiān)測(cè)。當(dāng)采樣平臺(tái)設(shè)置在離地面高度≥5米的位置時(shí)，應(yīng)有通往平臺(tái)的Z字梯/旋梯/升降梯；

l 為室外的煙氣CEMS裝置提供掩蔽所，以便在任何天氣條件下不影響煙氣CEMS的運(yùn)行和不損害維修人員的健康，能安全地進(jìn)行維護(hù)。安裝在高空位置的煙氣CEMS要采取措施防止發(fā)生雷擊事故，做好接地，以保證人員安全和儀器的運(yùn)行安全。

具體要求：

l 應(yīng)優(yōu)先選擇在垂直管段和煙道負(fù)壓區(qū)域；

l 測(cè)定位置應(yīng)避開(kāi)煙道彎頭和斷面急劇變化的部位。對(duì)于顆粒物CEMS，應(yīng)設(shè)置在距彎頭、閥門、變徑管下游方向不小于4倍煙道直徑，以及距上述部件上游方向不小于2倍煙道直徑處；對(duì)于氣態(tài)污染物CMES，應(yīng)設(shè)置在距彎頭、閥門、變徑管下游方向不小于2倍煙道直徑，以及距上述部件上游方向不小于0.5倍煙道直徑處。對(duì)矩形煙道，其當(dāng)量直徑D=2AB/(A+B)，式中A、B為邊長(zhǎng)。當(dāng)安裝位置不能滿足上述要求時(shí)，應(yīng)盡可能選擇在氣流穩(wěn)定的斷面，但安裝位置前直管段得長(zhǎng)度必須大于安裝位置后直管段的長(zhǎng)度。

l 為了便于顆粒物和流速參比方法的檢驗(yàn)和比對(duì)監(jiān)測(cè)，煙氣CEMS不宜安裝在煙道內(nèi)煙氣流速小于5m/s的位置。

l 每臺(tái)固定污染源排放設(shè)備應(yīng)安裝一套煙氣CEMS。

l 若一個(gè)固定污染源排氣先通過(guò)多個(gè)煙道后進(jìn)入該固定污染源的總排氣管時(shí)，應(yīng)盡可能將煙氣CEMS安裝在該固定污染源的總排氣管上，但要便于用參比方法檢驗(yàn)顆粒物CEMS和煙氣流速CEMS。不得只在其中的一個(gè)煙道上安裝一套煙氣CEMS，將測(cè)定值的倍數(shù)作為整個(gè)源的排放結(jié)果，但允許在每個(gè)煙道上安裝相同的煙氣CEMS，測(cè)定值匯總后作為該源的排放結(jié)果。

l 當(dāng)煙氣CEMS安裝在矩形煙道時(shí)，若煙道截面的高度大于4米，則不宜在煙道頂層開(kāi)設(shè)參比方法采樣孔；若煙道截面的寬度大于4米，則應(yīng)在煙道兩側(cè)開(kāi)設(shè)參比方法采樣孔，并設(shè)置多層采樣平臺(tái)。

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